目前公司使用多晶硅片制绒工艺，但电池片转化率偏低。需要一种湿法黑硅制绒添加剂研发技术，提高电池转化率，解决黑硅工艺瓶颈问题。实现以下技术目标：1.绒面均匀、晶界模糊。2.多晶硅片反射率达到15%-25%。3.电池片转化率大于19%。